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我国新材料产业发展战略研究  CNKI文献

新材料产业作为战略性新兴产业的重要组成部分,其发展关系到国民经济、社会发展和国家安全。本文介绍了国内外新材料产业的发展现状,指出了我国新材料产业发展存在的问题,并提出了今后发展的重点方向和政策建议。

屠海令 张世荣... 《中国工程科学》 2016年04期 期刊

关键词: 新材料产业 / 发展战略 / 建议

下载(2415)| 被引(37)

新型传感材料与器件研究进展  CNKI文献

新型传感技术融合了材料科学、微纳电子技术、生物技术等学科,是人工智能、精准医疗、新能源等战略前沿的先导和基础,也是智慧城市、智慧医疗等物联网应用的技术关键。智能化、微型化、多功能化、低功耗、低成本、高灵...

屠海令 赵鸿滨... 《稀有金属》 2019年01期 期刊

关键词: 传感材料 / 传感器件 / 石墨烯 / 有机半导体

下载(1176)| 被引(10)

我国新材料产业现状分析与前瞻思考  CNKI文献

新材料是指新出现的具有优异性能和特殊功能的材料,以及传统材料成分、工艺改进后性能明显提高或具有新功能的材料。新材料是工业产品质量升级换代的保证和产业技术创新的前提,同时也是其他新兴产业发展的基础,在航空...

屠海令 马飞... 《稀有金属》 2019年11期 期刊

关键词: 新材料产业 / 发展战略 / 政策建议

下载(746)| 被引(4)

二维原子晶体材料及其范德华异质结构研究进展  CNKI文献

2004年英国曼彻斯特大学Geim研究组成功剥离出石墨烯(graphene)以来,二维原子晶体(two-dimensional atomic crystals)材料获得了极大关注。二维原子晶体材料及其范德华异质结构(van der Waals heterostructures)具有电...

屠海令 赵鸿滨... 《稀有金属》 2017年05期 期刊

关键词: 二维原子晶体 / 范德华异质结构 / 功能器件

下载(1018)| 被引(6)

我国关键基础材料发展现状及展望  CNKI文献

关键基础材料作为工业"四基"的重要组成部分,是我国制造业赖以发展的关键,对国民经济、国防军工建设起着重要的支撑和保障作用。本文概述国内外关键基础材料的发展现状,归纳存在的问题,提出其进一步发展的政...

屠海令 李腾飞... 《中国工程科学》 2017年03期 期刊

关键词: 关键基础材料 / 发展现状 / 政策建议

下载(423)| 被引(7)

高介电常数栅介质的性能及与硅衬底间的界面稳定性  CNKI文献

二氧化硅由于具有良好的绝缘性能及稳定的硅/二氧化硅界面而长期用于硅集成电路的制备。然而对于纳米线宽的集成电路,需要寻找新的高介电常数(高k)的栅极介质材料代替二氧化硅,以保持一定的物理厚度和优良的耐压及漏电...

屠海令 杜军 《稀有金属》 2007年03期 期刊

关键词: 高k栅介质 / 性能 / 界面 / 硅技术

下载(451)| 被引(19)

近六年《麻省理工科技评论》“全球十大突破性技术”解析与...  CNKI文献

《麻省理工科技评论》自2001年起每年发布"全球十大突破性技术",关注技术的商业应用潜力及其对人类生活和社会的重大影响。本文从技术影响类型、技术领域等角度入手,对《麻省理工科技评论》近六年发布的60项...

屠海令 孙棕檀... 《中国工程科学》 2017年05期 期刊

关键词: 科技评论 / “全球十大突破性技术” / 商业 / 产业

下载(189)| 被引(0)

半导体集成电路用金属硅化物的制备与检测评价  CNKI文献

金属硅化物广泛用于微电子器件中的源、漏、栅极与金属电极间的接触,是制备纳米集成电路的关键材料之一。本文叙述了半导体集成电路用功能金属硅化物的相组成、界面反应和形成机制以及热蒸发、离子注入、溅射沉积、分...

屠海令 王磊... 《稀有金属》 2009年04期 期刊

关键词: 金属硅化物 / 性质 / 检测 / 缺陷

下载(310)| 被引(9)

半导体硅及硅基材料研究中的几个问题  CNKI文献

叙述了大直径硅单晶生长,计算机数值模拟以及绝缘体上硅(SOI)、锗硅(SiGe)和应变硅等硅基材料的研究进展,讨论了硅中缺陷演化、杂质特性、缺陷工程和表面与界面质量控制,展望了后摩尔时代半导体硅及硅基材料的发展前景...

屠海令 《上海金属》 2008年05期 期刊

关键词: 大直径硅单晶 / 硅基材料 / 缺陷 / 杂质

下载(397)| 被引(10)

硅及硅基半导体材料中杂质缺陷和表面的研究  CNKI文献

随着超大规模集成电路设计线宽向深亚微米级(<05μm)和亚四分之一微米级(<025μm)发展,对半导体硅片及其它硅基材料的质量要求越来越高,研究上述材料中各种杂质的行为,控制缺陷类型及数量,提高晶体完整性,降低表...

屠海令 《中国工程科学》 2000年01期 期刊

关键词: 硅片 / 硅外延片 / 锗硅 / 绝缘体上硅

下载(687)| 被引(15)

加强宽禁带半导体材料的研发与应用  CNKI文献

宽禁带(一般指禁带宽度>2.3 e V)半导体材料的研发与应用方兴未艾,正在掀起新一轮的热潮;其中碳化硅(Si C)和氮化镓(Ga N)以高效的光电转化能力、优良的高频功率特性、高温性能稳定和低能量损耗等优势,成为支撑信息...

屠海令 《科技导报》 2017年23期 期刊

关键词: 宽禁带半导体材料 / 研发与应用 / 电力电子器件

下载(462)| 被引(2)

中国新材料产业“十三五”发展的重要方向  CNKI文献

材料是人类赖以生存和发展的物质基础,也是人类社会发展的先导。新材料是指新出现的具有优异性能和特殊功能的材料,以及传统材料成分、工艺改进后性能明显提高或具有新功能的材料。新材料是工业产品质量升级换代的保证...

屠海令 陈思联... 《科技中国》 2017年09期 期刊

关键词: 新材料产业 / 复合材料 / 重要方向 / “十三五”

下载(229)| 被引(0)

半导体材料稀土掺杂的理论及应用  CNKI文献

近年来,稀土掺杂导体材料已成为引人注目的研究课题。本文阐述了硅和主要Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体中掺杂的原理、掺杂方法;材料的制备及其电学、光学性质,并简要介绍了目前稀土掺杂半导体材料在光电器件方面的应用结果...

屠海令 《稀有金属》 1996年01期 期刊

关键词: / 砷化镓 / 磷化铟 / 稀土掺杂方法

下载(508)| 被引(10)

发展先进材料 迎接科技革命  CNKI文献

先进材料是其他战略新兴产业的基础,采用先进材料已成为未来技术和新兴产业的标志和特征之一。中国工程院院士屠海令认为,先进材料的群体性出现以及众多颠覆性技术的应运而生,将成为新一轮科技革命和产业变革最明亮的...

屠海令 《科技导报》 2014年34期 期刊

关键词: 新兴产业 / 颠覆性技术 / 科技革命 / 新一轮

下载(282)| 被引(1)

纳米集成电路用大直径硅与硅基材料的研究进展  CNKI文献

本文阐述了大直径硅单晶的生长、杂质缺陷行为、表面质量控制及硅基材料的研究现状;讨论了应变硅与绝缘体上硅(SOI)相结合的发展趋势;展望了纳米集成电路用大直径硅及硅基材料的技术经济前景。

屠海令 《功能材料信息》 2006年02期 期刊

关键词: 纳米集成电路 / 大直径硅单晶 / 硅基材料

下载(309)| 被引(5)

摩尔定律发展亟需450mm硅片但时间可能会推迟  CNKI文献

50年前,戈登·摩尔在为《Electronic》杂志撰写的一篇关于让更多元件填满微芯片的文章中,提出了著名的"摩尔定律",但多年来他自己并不太宣扬此事。如今,摩尔定律已成为人类历史上的奇迹,正如英特尔公司...

屠海令 《Engineering》 2015年02期 期刊

关键词: 摩尔定律

下载(36)| 被引(7)

我与黄昆先生的几次交往  CNKI文献

2019年是黄昆先生诞辰百年,他的治学作风和为人风范是中国教育和科学工作者的楷模,将永驻青史。我有幸与黄昆先生的几次交往,给我留下了不可抹去的深刻印象。1黄昆先生的第一次到访20世纪70年代初,我在天津半导体技术...

屠海令 《科技导报》 2019年17期 期刊

关键词: 《晶格动力学理论》 / 半导体缺陷

下载(19)| 被引(0)

发展先进材料 迎接新一轮产业变革  CNKI文献

所有领域的产业化发展带来的降低成本、环保、全生命周期的评价等方面的变化需要新材料这种基础工业形式发展的支撑。新材料可以带来许多产业颠覆技术的出现。"十二五"期间,我国新材料产业规模约为1.9万亿元...

屠海令 《中国工业评论》 2017年01期 期刊

关键词: 产业变革 / 新材料产业 / 产业化 / 全生命周期

下载(98)| 被引(0)

先进半导体硅材料:优化纳米集成电路性能的重要基础  CNKI文献

本文阐述了用于纳米集成电路的大直径硅材料中传热、传质过程,硅中金属杂质元素行为以及点缺陷及其衍生缺陷的产生和运动规律,表面形态与表面质量控制等研究热点;介绍了绝缘体上硅(SOI)、锗硅和应变硅等硅基材料的特性...

屠海令 《中国集成电路》 2006年09期 期刊

关键词: 半导体硅 / SOI / 纳米集成电路 / 应变硅

下载(219)| 被引(1)

表面光电压测量P型硅抛光片少子扩散长度及铁杂质含量的研究  CNKI文献

表面光电压法近年来在半导体晶片的电学特性研究中发挥了重要作用 .本文简述了该方法的测量原理 ,给出了直径 1 2 5mm硅抛光片少子扩散长度及铁杂质浓度的测量数据 ,讨论了生产工艺对硅抛光片表面质量的影响 .

屠海令 朱悟新... 《半导体学报》 1999年03期 期刊

关键词: 少子扩散长度 / 硅抛光片 / 铁杂质 / 深亚微米集成电路

下载(220)| 被引(5)

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