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第二十讲 真空离子镀膜  CNKI文献

(接2020年第4期第96页)13.6负偏压对膜沉积过程的影响13.6.1直流偏压真空阴极电弧离子镀一般配置直流负偏压电源。它的正极接镀膜室壳(阳极接地),其阴极连接在基片(工件)上。其负电压从0~-1000V可调,构成对阴极电弧源...

张以忱 《真空》 2020年05期 期刊

关键词: 离子镀膜 / 伏安特性 / 磁控溅射离子镀 / 等离子区

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中频非平衡磁控溅射制备硬质复合薄膜的研究  CNKI文献

目前,薄膜技术正朝着多元化、梯度化、复合化的方向发展。提高薄膜体系力学性能的有效工艺手段之一是制备多层复合膜,并在考虑多层复合膜构成组元的性质和沉积条件相关性的基础上优化薄膜的沉积工艺。在这种背景下,对...

张以忱 导师:马德纯 东北大学 2007-12-18 博士论文

关键词: 硬质复合薄膜 / 非平衡磁控溅射 / 离子束辅助沉积 / Ti-N-C薄膜

下载(1342)| 被引(11)

温度传感功能薄膜技术  CNKI文献

随着科学技术的不断进步,人们对温度信息获取的手段提出了新的要求,对温度传感器超小型化的要求越来越迫切,薄膜传感器的出现满足这一要求。薄膜温度传感器由于其优异的性能,在工业生产中越来越得到广泛应用。本文介绍...

张以忱 巴德纯... 《真空科学与技术》 2003年05期 期刊

关键词: 温度传感薄膜 / 功能薄膜 / 热电阻 / 热电偶

下载(675)| 被引(31)

第二十讲 真空离子镀膜  CNKI文献

13真空阴极电弧离子镀13.l概述真空阴极电弧离子镀简称真空电弧镀(Vacuum arc plating)。如采用两个或两个以上真空电弧蒸发源(简称电弧源)时,则称为多弧离子镀或多弧镀。它是把真空弧光放电用于蒸发源的一种真空离子...

张以忱 《真空》 2019年05期 期刊

关键词: 阴极电弧离子镀 / 弧光放电 / 多弧离子镀 / 阴极斑点

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真空技术及应用系列讲座 第十八讲 真空蒸发镀膜  CNKI文献

1概述真空蒸发镀膜(简称蒸镀)是在真空条件下,用蒸发器加热蒸发物质,使之汽化,蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。蒸镀是PVD技术中发展最早,应用较为广泛的镀膜技术,尽管后来发展起来的溅射镀...

张以忱 《真空》 2013年01期 期刊

关键词: 真空蒸发镀膜 / 平均自由程 / 真空镀膜 / 技术及应用

下载(1349)| 被引(12)

基于Monte Carlo方法的圆截面直角弯管传输几率  CNKI文献

借助Matlab软件,用蒙特卡洛方法对圆截面直角弯管在分子流态下的传输几率进行了模拟计算。通过数学方法实现对气体分子的虚拟约束和跟踪。本文先通过模拟最简单的圆直管道传输几率,并与Clausing、Dushman方法进行比较...

张以忱 韩晶雪... 《真空科学与技术学报》 2013年12期 期刊

关键词: 传输几率 / Monte / Carlo / 圆截面直角弯管

下载(100)| 被引(7)

第二十讲 真空离子镀膜  CNKI文献

(接2020年第1期第96页)f圆形平面可控电弧蒸发源圆形平面可控电弧蒸发源的原理如图40所示。其磁场由静止的外磁环和往复运动的中心磁柱构成。靶材上方的磁场可分解为水平磁场B//和垂直磁场B⊥。B∥束缚部分电子并使其...

张以忱 《真空》 2020年02期 期刊

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真空技术及应用系列讲座 第十八讲 真空蒸发镀膜  CNKI文献

(接2013年第3期第88页)2.3.3膜材的蒸发速率在蒸发物固(或液)相与其气相共存体系中,在热平衡状态下,根据气体分子运动论,若气体压力为p,温度为T,则单位时间内碰撞单位蒸发面积的分子数为

张以忱 《真空》 2013年04期 期刊

关键词: 基片温度 / 饱和蒸气压 / 真空蒸发镀膜 / 生长模式

下载(383)| 被引(9)

第二十讲 真空离子镀膜  CNKI文献

(接2020年第3期第96页)13.5.3过滤式真空电弧离子镀膜技术A过滤式电弧离子镀膜机结构型式典型的过滤式真空电弧离子镀设备结构如图47所示。其核心结构是一个A ksenov过滤器。它是一个具有螺旋管电磁线圈的不锈钢或石英...

张以忱 《真空》 2020年04期 期刊

关键词: 真空电弧离子镀 / 空间电场 / 等离子体流 / 阴极斑点

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电絮凝水处理技术阳极优化的研究  CNKI文献

简介了电絮凝法处理废水的基本原理,重点探讨了目前电絮凝水处理技术中存在的阳极钝化问题,以及影响阳极钝化的主要因素,并提出了解决阳极钝化的方法和建议。在实际处理工艺中,可以从采用新型电极、磁场效应以及改进电...

张以忱 钱炯... 《工业水处理》 2007年03期 期刊

关键词: 电絮凝 / 水处理 / 钝化 / 阳极优化

下载(668)| 被引(18)

第二十讲 真空离子镀膜  CNKI文献

(接2020年第2期第96页)B锐角运动当磁场与阴极表面斜交时,阴极斑点并不是在垂直于B∥的方向上运动,而是从垂直于B∥方向又向磁场与阴极平面成锐角方向偏离一定的角度方向运动,即在反向运动上还叠加一个漂移运动。漂移...

张以忱 《真空》 2020年03期 期刊

关键词: 阴极弧斑 / 阴极电弧源 / 阴极斑点 / 真空离子镀膜

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第二十讲 真空离子镀膜  CNKI文献

(接2018年第5期第88页)6.3蒸发源功率蒸发源功率提高,则膜材蒸发率增加,一般而言,膜的沉积速度也相应增加。蒸发源功率对蒸发速率的影响比较直接,但蒸发粒子达到基片之前需飞越放电空间,要受到空间气体粒子的碰

张以忱 《真空》 2018年06期 期刊

关键词: 离子镀膜 / 基片温度 / 沉积速率 / 离子镀装置

下载(160)| 被引(1)

第二十讲 真空离子镀膜  CNKI文献

(接2019年第5期第80页)13.2.3电弧放电等离子体参数电弧放电等离子体的参数主要有电子温度Te、电离强度αe、电场强度E、带电粒子密度ni(≈ne)及等离子体电位Ui及阳极电流Ia。A等离子体电位Ui首先做如下假设:(1)除电荷...

张以忱 《真空》 2019年06期 期刊

关键词: 电弧放电等离子体 / 电子温度 / 永磁体 / 阴极电弧

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第二十讲 真空离子镀膜  CNKI文献

(接2018年第4期第80页)(1)等离子体鞘:基片(工件)放进等离子体云中,不与等离子体直接接触。基片与等离子体之间隔了一层电中性被破坏了的薄层,是一个负电位区,称等离子体鞘,或称鞘层。在等离子体与容器壁之间,放置在等...

张以忱 《真空》 2018年05期 期刊

关键词: 离化率 / 离子镀 / 正离子 / 等离子体云

下载(191)| 被引(1)

第二十讲 真空离子镀膜  CNKI文献

真空离子镀膜技术(简称离子镀)是由美国Sandin公司开发的将真空蒸发和真空溅射结合的一种镀膜技术。离子镀膜过程是在真空条件下,利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化,在工作气体离子或被蒸发物质的离子...

张以忱 《真空》 2018年03期 期刊

关键词: 离子镀膜 / 等离子体 / 正离子 / 气体放电

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一种旋片泵抽速曲线数值化方法的探讨  CNKI文献

在真空系统设计中,常常要根据真空泵的抽速曲线来计算抽气时间。然而如果抽速按照常数计算则会有较大的误差,因此作者对真空泵抽速曲线数值化进行了研究。针对各种真空泵抽速曲线的特点,本文选用曲线拟合的方法对旋片...

张以忱 黄化岩... 《真空科学与技术学报》 2014年08期 期刊

关键词: 真空系统设计 / 抽气时间 / 抽速曲线 / 曲线拟合

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第二十讲 真空离子镀膜  CNKI文献

(接2019年第1期第80页)典型的ARE装置见图12。这种装置的蒸发源通常采用e型枪。真空室结构分上下两室,上室为蒸镀室,下室为电子束源的热丝发射室,两室之间设有压差孔,电子枪发射的电子束经压差孔偏转聚焦在坩埚中心使...

张以忱 《真空》 2019年02期 期刊

关键词: 离子镀装置 / 化合物薄膜 / 离化率 / 真空离子镀膜

下载(175)| 被引(0)

第二十讲 真空离子镀膜  CNKI文献

(接2019年第3期第80页)如图21所示,用高熔点金属钽(或钨)管做阴极,坩埚做阳极,待真空室抽至高真空后,钽管中通过氩气,首先用数百伏电压点燃气体产生阴极辉光放电。由于空心阴极效应,钽管中电流密度很大,大量的氩离子轰...

张以忱 《真空》 2019年04期 期刊

关键词: 离子镀膜设备 / 电子枪 / 等离子体 / 阴极盘

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圆平面磁控溅射靶磁场的ANSYS模拟分析  CNKI文献

磁控溅射靶面磁感应强度的水平分布直接关系到靶材的利用率和刻蚀的均匀性。为了寻求更好的磁控靶结构参数,从而实现靶面水平磁感应强度的均匀分布,作者应用ANSYS软件对SD500型磁控溅射镀膜机的圆平面靶表面磁感应强度...

张以忱 王德志... 《真空》 2011年02期 期刊

关键词: 磁控溅射靶 / ANSYS模拟 / 结构参数 / 均匀刻蚀

下载(388)| 被引(8)

小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性研究  CNKI文献

本文从圆平面靶磁控溅射的原理出发,针对圆形平面靶面积小于基片面积的特点进行分析,建立膜厚分布的数学模型,并利用计算机进行模拟计算,目的在于探寻平面靶材面积小于基片面积时影响膜厚均匀性的因素。模拟计算的结果...

张以忱 高士铁... 《真空》 2010年02期 期刊

关键词: 薄膜 / 磁控溅射 / 圆平面靶 / 数学模型

下载(370)| 被引(9)

学术研究指数分析(近十年)详情>>

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