采用双离子束溅射方法在Si3N4/SiO2/Si基底表面沉积氧化钒薄膜,在氮气气氛下热处理获得二氧化钒薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线光电子能谱(XPS)研究了热处理温度对氧化钒薄膜晶体结构、表面形貌...
采用双离子束溅射氧化钒薄膜附加热处理的方式制备了纳米二氧化钒薄膜。在热驱动方式下,分别利用四探针测试技术和傅里叶变换红外光谱技术对纳米二氧化钒薄膜的电学与光学半导体-金属相变特性进行了测试与分析。实验结...
VO_2(B)/ZnO异质复合纳米棒结构的室温NH_3敏感性能研究 CNKI文献
以VO_2(B)纳米棒为内核,利用液相生长法制备了VO_2(B)/ZnO异质复合纳米棒,研究了ZnO生长溶液浓度对复合结构微观形貌和气敏性能的影响规律。采用扫描电子显微镜和X射线衍射仪对复合结构样品的微观形貌和结晶取向进行表...
不同升温热处理方式二氧化钒薄膜的制备与光学相变性能 CNKI文献
采用双离子束溅射方法制备氧化钒薄膜,分别利用常规和快速两种升温方式对氧化钒薄膜进行热处理,利用傅里叶变换红外光谱技术对热处理后氧化钒薄膜的变温光学透射性能进行测试,并对5μm波长处透过率随温度的变化曲线进...
快速热处理温度对纳米结构二氧化钒薄膜相变特性的影响 CNKI文献
采用射频磁控溅射方法在单晶硅基底表面制备了单一相纳米结构二氧化钒(VO_2)薄膜,相变幅度超过2个量级;利用快速热处理设备对VO_2薄膜进行热处理,研究氮气氛下快速热处理温度对VO_2相变特性的影响。通过X射线衍射仪、...
梁继然 李景朋... 《稀有金属材料与工程》 2017年08期 期刊
关键词： 二氧化钒 / 快速热处理 / 绝缘体-金属相变特性
下载（171）| 被引（2）
采用直流对靶磁控溅射方法制备氧化钒薄膜,通过改变热处理温度获得了具有不同晶粒尺寸的相变特性氧化钒薄膜,对氧化钒薄膜相变过程中电阻和红外光透射率随温度的突变性能进行研究。结果表明:经300℃和360℃热处理后,薄...
采用双离子束溅射VOx薄膜附加热处理的方式制备纳米VO2薄膜,利用X射线衍射仪和扫描电子显微镜分别对其结晶结构和表面形貌进行了测试,利用傅立叶变换红外光谱仪(FTIR)对热驱动下纳米VO2薄膜相变过程中的光学性能进行测...
采用射频磁控溅射方法和热处理工艺制备了二氧化钒(VO2)薄膜,并制作了金属钨/VO2/金属钨三明治结构,通过改变金属钨/VO2/金属钨三明治结构中VO2薄膜与金属钨电极的接触面积,研究了VO2薄膜的电致相变特性.采用X射线衍射...
多孔硅作为微电子机械系统中重要的热绝缘层和牺牲层材料,其表面形貌结构特性是影响多孔硅上薄膜器件性能的重要因素．为此,利用双槽电化学腐蚀方法制备了多孔硅薄膜,并通过原子力显微镜和场发射扫描电子显微镜对制备...
Fabrication of VO_2 thin film by rapid thermal anneali... CNKI文献
Vanadium dioxide thin films have been fabricated through sputtering vanadium thin films and rapid thermal annealing in oxygen. The microstructure and the metal–insulator transition properties of the...
梁继然 吴劢君... 《Chinese Physics B》 2014年07期 期刊
关键词： vanadium / dioxide / metal–insulator / transition
下载（42）| 被引（2）
采用射频磁控溅射方法,结合氮气氛退火处理工艺制备二氧化钒薄膜,研究溅射功率对氧化钒薄膜电阻温度性能的影响.利用X射线衍射仪和X射线光电子能谱仪对薄膜的结晶结构和成分进行了分析,利用四探针测试仪测试了样品的电...
ZnSe、ZnS和Ge等是目前广泛应用于8～11.5μm(1250～870cm~(-1))波段的红外窗口和头罩材料，但随着红外器件的功率越来越高，这些窗口和头罩材料的光学与机械性能已经不能满足实用要求，需要性能更加优异的材料。 ...
采用热灯丝CVD、分次连续沉积的办法在硅衬底上制备金刚石膜.用RAMAN光谱、X ray衍射、扫描电子显微镜(SEM)等多种技术对金刚石膜的形貌、成份、晶态等特性进行了分析,证实所获膜质量较好.
梁继然 常明... 《天津理工大学学报》 2005年01期 期刊
关键词： 金刚石膜 / 热灯丝CVD / Xray衍射 / 扫描电子显微镜(SEM)
下载（354）| 被引（12）
微测辐射热计用氧化钒薄膜的制备及其电阻温度性能研究 CNKI文献
氧化钒薄膜具有高的电阻温度系数(TCR),是制备微测辐射热计的理想热敏感材料。高的电阻温度系数和良好的绝热结构是获得高性能微测辐射热计的前提。本论文采用直流对靶磁控溅射和射频离子束溅射两种方法制备了氧化钒薄...
用对靶磁控溅射附加低温热氧化处理方法制备相变氧化钒薄膜 CNKI文献
采用直流对靶磁控溅射低价态氧化钒(VO2-x)薄膜再附加热氧化处理的方式,进行具有金属-半导体相变特性氧化钒薄膜的制备。采用X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对薄膜中钒的价态与组分、薄膜结...
低温热氧化处理温度与时间对氧化钒薄膜性能的影响 CNKI文献
采用直流对靶磁控溅射氧化钒薄膜再附加热氧化处理的方式进行金属-半导体相变特性氧化钒薄膜的制备,研究了低热处理温度下热处理温度与时间对氧化钒薄膜组分、晶体结构和相变性能的影响。新制备的氧化钒薄膜为V2O3和V...
采用直流对向靶磁控溅射的方法在S iO2/S i衬底上制备了具有(001)择优取向的V2O5薄膜,利用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜和四探针测试方法对退火前后薄膜的表面形貌、物相组分和电阻温度系数进行了测量.结果表明:2...
利用电化学腐蚀的方法在p型单晶硅(100)衬底上制备了多孔硅薄膜。利用微拉曼光谱法分别测量了处于湿化—干燥—再湿化3个阶段的多孔硅薄膜的拉曼频移,对多孔硅内应变引起的频移改变量和纳米硅晶粒因声子限制效应引起的...
采用直流对向靶磁控溅射方法制备低价态纳米氧化钒薄膜,研究热氧化处理温度和时间对氧化钒薄膜的组分、结构和电阻温度特性的影响.采用X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对氧化钒薄膜的组分、...
