利用等离子体辅助物理气相沉积制备化合物薄膜(氧化物、碳化物、氮化物和硫化物等)技术已广泛应用于很多工业领域,包括微电子学、光学、磁学中介质膜的沉积;切削和成形刀具上超硬碳化物和氮化物薄膜的沉积;固体润滑中...
利用双离子束溅射沉积技术,在锗、硅、K9玻璃、不锈钢基底上沉积了二氧化硅薄膜。考察了不同束辐照条件下二氧化硅薄膜的电阻率、折的率、红外吸收谱和显微组织结构。
一、前言在真空和低压环境中,将可凝性原子(吸附原子)传输到一表面来制备薄膜。产生吸附原子的方法有热蒸发、物理溅射、气相粒子、其它蒸发源,诸如真空或等离子体电弧。影响薄膜各生长阶段的主要参数有基底温度;沉积...
类金刚石薄膜是七十年代初期出现的新型非金属薄膜材料之一.这种与金刚石的特性相接近的薄膜具有优良的耐磨、耐蚀性以及许多优良的光学性能.在文章的第二部分介绍了离子束沉积和等离子沉积两种获得类金刚石薄膜的原理...
薄膜应力对薄膜性能具有重要的影响。主要介绍了薄膜应力形成机理和应力实验的研究进展,并探讨了薄膜应力研究的发展趋势。通过选择适当的工艺条件以及表面处理可以改变薄膜的应力分布,提高薄膜的性能。
首先扼要阐述了与金刚石薄膜制备技术有关的等离子体特性,随后着重介绍了金刚石薄膜制备技术的最新进展。根据沉积工艺参数和装置的结构评价了各种技术的优缺点。最后指出了目前这些技术中存在的问题。
碳化硅薄膜有密度小、热导率高、热膨胀系数低、硬度高等优异的性能。介绍了制备碳化硅薄膜的2种常用方法,即化学气相沉积和磁控溅射技术,比较了2种方法的各自优势。总结了碳化硅薄膜光学性能及短波发光特性的研究进展...
综述了具有二次电子发射功能的MgO薄膜的主要制备方法,包括电子束蒸发、磁控溅射、溶胶-凝胶、分子束外延和脉冲激光沉积法。阐述了各种方法在制备MgO薄膜方面的优点和不足,讨论了不同的制备方法对MgO薄膜结晶取向、表...
离子束轰击对电子束蒸发制备二氧化钛薄膜应力的影响 CNKI文献
在硅基底上用电子束蒸发方法制备了二氧化钛薄膜。通过XRD、AFM和薄膜应力测试仪研究了离子束轰击对薄膜应力的影响规律。结果表明沉积温度为323K、沉积速率为0.2nm.s-1时,二氧化钛薄膜具有较小的应力值,平均应力为48...
离子束辅助沉积和真空退火对硫化锌薄膜应力的影响 CNKI文献
在硅基底上用电子束蒸发方法制备了硫化锌薄膜。通过XRD和薄膜应力测试仪研究了离子束辅助沉积和真空退火对硫化锌薄膜应力的影响规律。结果表明,未采用离子辅助技术制备的硫化锌薄膜为压应力,平均应力值为110.6 MPa,...
线性渐变滤光片是一种特殊的滤光片,它的中心波长是随着在滤光片上位置的不同而变化的。采用离子束辅助沉积技术研制的线性渐变滤光片在0.4～1.1μm波段有10通道,平均透射率从77.5%增加到97.4%,在基板的中间任一位置只...
在圆形硅基底上采用电子束加热蒸发制备了二氧化钛薄膜。薄膜应力测试结果表明,二氧化钛薄膜的内应力分布是不均匀的;二氧化钛薄膜的内应力集中主要出现在薄膜的边缘区域,有正应力的集中也有负应力的集中。原子力显微...
提出了一种基于遗传算法的衍射光学元件优化设计方法;在衍射光学元件设计中遗传算法运行参数对遗传算法性能有一定的影响:采用较大的群体规模,遗传算法越容易获得最优解;交叉算子越大,遗传算法全局搜索能力越强;选择算...
MoS_2/石墨溅射涂层在真空中不同载荷下的摩擦磨损行为研究 CNKI文献
为改进纯MoS2涂层的耐磨损性能,采用溅射技术合成了添加石墨的MoS2涂层。在球-盘摩擦试验机上,考察了法向载荷对MoS2/石墨溅射涂层真空中的摩擦因数和磨损率的影响,并利用扫描电子显微镜对其磨损形貌进行了分析。结果...
可调谐红外滤光片是高分辨率红外成像仪谱段识别和分光的重要光学器件.本文介绍了一种新型可调红外滤光片———液晶法布里-珀罗滤光片的基本原理、设计参数、制作方法,分析了这种滤光片的透射光谱、精细度、带宽、镜...
利用ANSYS软件对盒栅式倍增系统打拿极三维电场分布进行了建模,计算了打拿极附近电势分布情况。通过对比不同模型的计算结果,对影响盒栅式倍增系统打拿极电场分布的因素进行了研究。结果表明,打拿极的结构布局和栅网宽...
激光武器的迅速发展使得激光防护技术研究成为必要,目前,破坏卫星上的遥感仪器是激光反卫星的一个主要可能途径。为了有效防护星载遥感仪器,利用光学薄膜方法,可以对氧碘激光进行防护的薄膜,在不影响遥感仪器正常工作...
提出了一种膜厚修正挡板的设计方法,分析给出了使用挡板情况下基片膜厚和监控片膜厚的关系,对线性渐变滤光片镀制挡板进行了设计,给出了设计结果。用设计的挡板成功镀制了线性渐变滤光片,并给出了镀制结果。
介绍了激光直写技术制作二元光学元件铬版掩模的原理,分析了影响铬版上铬膜氧化程度的因素,研究了铬版上 刻写掩模图案时激光能量与刻写半径之间的关系,总结了利用激光直写方法刻写二元光学元件铬版掩模过程中激光能量...
