Spectral Measurement of Atmospheric Pressure Plasma by... CNKI文献
A digital camera measuring system has been used successfully to measure the space fluctuation behaviors of Induced Dielectric Barrier Discharge (IDBD) plasma at atmospheric pres- sure. The experiment...
葛袁静 张广秋 ... 《Plasma Science & Technology》 2002年01期 期刊
关键词： Spectral / Measurement / of / Atmospheric
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在本文中将报告一种新研制的可用激光印字机直接制版的胶印版材的性能及应用。
本文叙述了HT-6A托卡马克平衡系统及第一期平衡实验结果.讨论了HT-6A上铜壳对平衡的贡献;观察到改变垂直场形态因子n而产生的水平位移及垂直位移不稳定现象;介绍了正常放电时的平衡实验,观察到等离子体位移与MHD扰动是...
目前,绝大多数小胶印机的版材是氧化锌版和PS版。其制版工艺,对氧化锌版为:(1)用激光印字机出纸样,(2)拼版,(3)静电制版,(4)修版,(5)固版。即获得可上机印刷的印版。这种版的优点是经济,简单,但是耐印力低,印刷质量低...
通过实验分析了射频等离子体自偏压的产生及与电子密度、电子温度的关系和对聚合成膜质量的影响并探讨了其机制,指出产生自偏压可明显改善等离子体聚合成膜质量,这是由于自偏压提高了等离子体中电子温度和电子密度的结...
利用射频等离子体化学气象沉积法 (r.f.PECVD) ,在 12 μm厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯 (PET)上制备了碳氢膜 .用原子力显微镜 (AFM) ,x射线光电子能谱 (XPS) ,激光拉曼光谱 ,傅里叶红外光谱等仪器 ,对碳氢膜的表面形貌和...
关键词： 碳氢膜 / 射频等离子体化学气象沉积法 / 聚对苯二甲酸乙二醇酯 / 阻隔性能
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等离子体科学和技术是一门与多门学科和技术相关的学科和技术 ,它的许多成果 ,在包装业中已得到了广泛应用。文中将等离子体技术在国内外包装行业中应用现状、应用前景 ,现代包装业发展以及对等离子体科学技术提出的新...
Investigation on Application of Plasma Technology in P... CNKI文献
Some investigation on application of plasma technology in printing industry will be reported. These results show that plasma technology has a good prospect in the field of printing industry.
张广秋 葛袁静 ... 《Plasma Science & Technology》 2001年04期 期刊
关键词： Investigation / on / Application / of
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S iOx阻隔薄膜具有优异的阻隔性,并且光透过性和微波透过性好,在阻隔包装领域的应用前景广泛,介绍了S iOx包装阻隔薄膜的制备方法:物理气相沉积,等离子体聚合及大气下等离子体聚合等。
关键词： SiOx薄膜 / 阻隔性 / 物理气相沉积 / 等离子体化学气相沉积
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以六甲基二硅氧烷为单体,利用高频等离子体在超微细低熔磷酸盐玻璃粉体表面聚合硅氧聚合物包覆薄膜。用水和粉体压片之间的接触角变化表征了等离子体工艺参数对粉体表面能的影响。结果表明改性后粉体配制电子浆料的细...
利用强流电子束蒸发技术在厚度为 12 μm的PET基材上制备了阻隔性能优良的高阻隔SiOx薄膜。所制备的SiOx薄膜无色透明 ,与基材附着牢固 ;PET基材上的SiOx薄膜厚度不同 ,对水蒸气的阻隔性能不同。膜厚为 340～ 32 0 0n...
在射频等离子体放电条件下,以六甲基二硅氧烷(Hexamethyldisilone,HMDSO)为单体,氧气为反应气体,在PET薄膜及载玻片上聚合SiOx薄膜。通过红外光谱(FTIR)分析了工作压强、功率、单体氧气比、聚合时间等对聚合薄膜的结构...
韩尔立 陈强... 《真空科学与技术学报》 2006年06期 期刊
关键词： 水蒸汽阻隔层 / 等离子体增强化学气相沉积 / SiOx薄膜
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聚合单体对制备SiO_x高阻隔性薄膜性能的影响 CNKI文献
论述在食品包装保质保鲜方面,对普通包装基材PET、BOPP等表面采用等离子体化学气沉积一层纳米级透明的SiOx层高阻隔层。实验采用13.56MHz的射频等离子体装置,分别以四甲基二硅氧烷(TMDSO)和六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单...
关键词： PECVD / 四甲基二硅氧烷(TMDSO) / 六甲基二硅氧烷(HMDSO) / 高阻隔性薄膜
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射频等离子体化学气相沉积(RF-PECVD)制备Si-O-N特种阻隔包... CNKI文献
采用13.56MHz射频等离子体聚合装置,以六甲基二硅氧烷(HMDSO)和四甲基硅氧烷(TMDSO)为单体、氧气以及氮气为反应气体、氩气为电离气体,在载玻片、单晶硅片、PET等基材上沉积硅氧氮薄膜。在薄膜的制备工艺研究中,通过改...
采用连续与脉冲射频等离子体合成低表面能薄膜SiCxOy。通过对薄膜性能的表征,发现等离子体放电模式影响聚合膜的化学结构、表面成份、表面能数值大小,认为采用脉冲射频等离子体更易合成低表面能聚合物。
以六甲基二硅氧烷为反应单体,采用连续与脉冲射频(RF)等离子体两种放电模式聚合低表面能薄膜, 研究了连续放电不同功率、脉冲放电不同脉冲宽度和间隔对聚合薄膜性能的影响．通过对薄膜性能的表征:接 触角的测量,红外光...
鉴于高气压下的沿面介质阻挡放电发生器在工业应用以及等离子体电磁屏蔽技术领域的重要应用前景,在梳状电极结构的沿面介质阻挡放电发生器基础上设计了两种电极结构的等离子体发生器,并通过边界元方法得到两种结构类型...
以六甲基二硅氧烷为反应单体,采用连续与脉冲射频(RF)等离子体两种放电模式聚合低表面能薄膜,研究了连续放电不同功率、脉冲放电不同脉冲宽度和间隔对聚合薄膜性能的影响.通过对薄膜性能的表征:接触角的测量,红外光谱...
N_2等离子体接枝处理丙纶改性及染色的初步研究 CNKI文献
本研究用氮气等离子体固相表面修饰改性对丙纶纤维进行表面处理。用傅立叶变换红外光谱分析改性前后样品表面官能团变化,用扫描电镜分析改性前后样品表面的形貌变化,用紫外可见分光光度计测试样品的上染率。结果表明:...
