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铝柱撑二硫化钼的制备及其催化氧化性质  CNKI文献

本文采用单分子层技术将聚合羟基铝簇离子嵌入到二硫化钼板层间,得到层间距为1.481至1.519nm的柱撑二硫化钼复合材料。XRD、DSC等研究表明,柱化液的滴加浓度越稀、柱撑反应体系中Al∶MoS2物质的量之比越小越有利于获得...

裴小科 林碧洲... 《无机化学学报》 2005年03期 期刊

关键词: 二硫化钼 / 单分子层 / 嵌入化学 / 催化氧化

下载(234)| 被引(12)

铁铝柱撑二硫化钼的合成与表征  CNKI文献

采用取代反应获得了具有Keggin结构的聚合羟基铁铝离子,并通过单分子层技术将聚合羟基离子嵌入到二硫化钼的层间,制得了层间距1.394至1.513nm的柱撑二硫化钼复合材料.研究表明,随着Fe/Al比的增加,层间距逐渐下降,颗粒...

裴小科 林碧洲... 《无机材料学报》 2005年06期 期刊

关键词: 二硫化钼 / 羟基铁铝 / 硫化物 / 催化氧化

下载(152)| 被引(8)

铝柱撑二硫化钼的制备及其催化氧化性能  CNKI文献

柱撑二硫化钼复合材料是用人工合成方法,使无机或有机分子(离子)插入MoS_2层间组装复合而成的一种新功能材料。它具有各向异性、电学、磁学、催化等性能,在电极材料、石油化工、环境保护等方面有着广阔的应用前景。本...

裴小科 导师:林碧洲 华侨大学 2005-04-01 硕士论文

关键词: 二硫化钼 / 铝簇柱撑 / 主-客体化学 / 催化氧化

下载(258)| 被引(2)

含钴(Ⅱ)配阳离子的MoS_2基嵌入化合物  CNKI文献

本文测量了表面灼电位随pH值的变化关系,表明MoS2单分子层表面吸附的是OH-离子,其等电点在pH=2附近。在pH=5~10范围内,灼电位在-22到-24mV之间,较为稳定。在pH=7.2条件下,利用MoS2单分子层与钴髤配位阳离子基团反应合...

林碧洲 裴小科... 《无机化学学报》 2004年09期 期刊

关键词: 二硫化钼 / 嵌入化学 / 单分子层

下载(165)| 被引(17)

铝簇柱撑MoS_2复合材料及其对硫化物催化氧化作用  CNKI文献

本文采用单分子层技术制备铝簇柱撑二硫化钼复合材料,并用XRD对其进行表征。通过该方法制备的铝簇柱撑二硫化钼复合材料获得了0.883nm的开孔距离,并研究了其对Na2S氧化反应的催化作用。实验表明,铝簇柱撑二硫化钼复合...

裴小科 林碧洲... 第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅲ 2004-09-01 中国会议

关键词: 二硫化钼 / 单分子层 / 硫化物 / 催化氧化

下载(18)| 被引(0)

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