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IC制程的成品率和产品质量越来越受到单晶硅片质量的影响,其中光刻技术对硅抛光片表面几何参数的要求也越来越严格。如何持续地提高硅片的几何参数水平,特别是总厚度变化(TTV)及局部平整度(STIR)的水平,成为了硅片供方...

史舸邓德翼... 2004年中国材料研讨会论文摘要集 2004-11-01 中国会议

下载（121）| 被引（1）

通过对影响抛光硅片的几何参数的因素的分析,从而导出一套对其进行有效控制的方法。

史舸邓德翼... 2004年材料科学与工程新进展 2004-11-01 中国会议

关键词： TTV / STIR / 锥度

下载（39）| 被引（0）

	题名	作者	来源	发表时间	类型	被引	下载	操作
1	硅抛光片几何参数控制的工艺研究	史舸邓德翼	2004年中国材料研讨会...	2004-11-01	会议	1	121
2	硅抛光片几何参数控制的工艺研究	史舸邓德翼	2004年材料科学与工程...	2004-11-01	会议	0	39

学术研究指数分析(近十年)详情>>