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脉冲偏压电弧离子镀沉积TiO_2与AlN介电薄膜  CNKI文献

介电薄膜是应用最广泛的一类功能薄膜,在机械、电子、信息、航天等领域起着越来越重要的作用。但由于其导电性能不好,给它们的沉积制备带来了难度。比如采用最为常用的PVD技术之一即离子镀方法来制备这类薄膜时,由...

张敏 导师:董闯 大连理工大学 2007-12-30 博士论文

关键词: 脉冲偏压电弧离子镀 / 介电薄膜 / 氧化钛薄膜 / 氮化铝薄膜

下载(430)| 被引(5)

脉冲偏压电弧离子镀大颗粒净化的理论与实验研究  CNKI文献

本文改进和完善了脉冲偏压电弧离子镀的大颗粒净化的理论模型,系统研究了脉冲偏压作用下的等离子体鞘层的物理特性和大颗粒在鞘层中的充电、受力以及运动行为,从理论上给出脉冲偏压工艺对于大颗粒净化效应的合理解释...

郭慧梅 导师:林国强 大连理工大学 2004-05-01 硕士论文

关键词: 脉冲偏压 / 电弧离子镀 / 大颗粒 / 等离子体鞘层

下载(282)| 被引(10)

脉冲偏压电弧离子镀的低温沉积与大颗粒净化效应  CNKI文献

电弧离子镀(Arc ion plating,AIP)是离化率很高的离子镀形式,它在TiN类硬质薄膜的合成中起着至关重要的作用,也是应用最为广泛的PVD技术之一。但是相对而言,传统的电弧离子镀还存在着沉积温度高、膜层内应力大、组织缺...

林国强 赵彦辉... TFC’03全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集 2003-09-01 中国会议

关键词: 电弧离子镀 / 低温沉积 / 大颗粒 / 净化效应

下载(40)| 被引(0)

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