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2021高功率脉冲磁控溅射技术与应用专题会议通知(第...  CNKI文献

高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)为代表的高离化磁控溅射技术作为一种新的物理气相沉积技术,可以明显提高薄膜结构可控性,进而获得优异的薄膜性能,在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注和重视。为推动该技...

《表面工程与再制造》 2021年02期 期刊

2019高功率脉冲磁控溅射技术与应用会议第一轮通知  CNKI文献

(甘肃兰州2019年7月28-30日)高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)作为一种利用高脉冲峰值功率和低脉冲占空比实现高离化率的溅射沉积薄膜新技术,可以控制膜层的微结构、降低膜层内应力、提高膜层致密度和膜基结合力...

《真空与低温》 2019年03期 期刊

铌掺杂二氧化钛导电薄膜等离子体材料性能研究  CNKI文献

透明导电的铌掺杂二氧化钛(TNO)具有导电性好和可见光波段透射率高的性质,与标准半导体制造工艺兼容性好,容易制备成膜和其他各种纳米结构。掺铌二氧化钛透明导电氧化物(TCO)薄膜在近红外(NIR)波段其介电常数的实部可...

罗咏洲 导师:杨光 华中科技大学 2016-05-01 硕士论文

关键词: 脉冲激光沉积 / TNO薄膜 / 近红外 / 等离子体材料

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SiC镜面上HfO_2/SiO_2和Nb_2O_5/SiO_2高反膜的制备及其抗激...  CNKI文献

近年来,随着激光技术在可控核聚变、模拟爆炸以及激光武器等方面的飞速发展,大功率、高能量激光系统的设计和实现成为各国研究者们争相追求的重要课题之一,而激光谐振腔中反射元件的反射率和抗激光损伤阈值是决定激光...

付朝丽 导师:焦正 上海大学 2016-05-01 硕士论文

关键词: 激光高反镜 / Si / C反射镜 / 高反膜

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磁控溅射技术及其发展  CNKI文献

磁控溅射技术可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜,以及各种具有特殊功能的薄膜,在工业薄膜制备领域的应用非常广泛。本文着重介绍了磁控溅射技术原理、特点、磁控溅射技术的发展史及其发展趋...

李芬 朱颖... 《真空电子技术》 2011年03期 期刊

关键词: 薄膜制备 / 磁控溅射 / 平衡磁控溅射 / 非平衡磁控溅射

下载(8032)| 被引(312)

PLD、SRMS系统的研制及巨磁电阻合金的研究  CNKI文献

本论文设计研制和改造了脉冲激光沉积薄膜装置(Pusled Laser Deposition),其中包括真空系统、光路系统、自动加热控温系统、充气系统及弹性靶材转动机构等,且在玻璃基片上沉积了钙钛矿结构的薄膜材料;设计研制了用...

金克新 导师:陈长乐 西北工业大学 2003-03-01 硕士论文

关键词: 巨磁电阻效应 / 脉冲激光沉积薄膜 / 靶材转动机构 / 单辊熔体旋铸

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