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0.35微米门孔宽度的劈形场发射冷阴极 CNKI文献

本文介绍一种用普通光学曝光法制作亚微米门孔宽度的真空微电子器件劈形场发射冷阴极的方法及实验结果。

张友渝中国电子学会真空电子学分会第十届年会论文集（下册） 1995-11-13 中国会议

关键词：场发射冷阴极 / 真空微电子器件

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