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MEMS开关中聚合物牺牲层去除方法研究  CNKI文献

制作了一种以聚酰亚胺作为牺牲层的低下拉电压开关,聚酰亚胺牺牲层采用反应离子刻蚀(RIE)工艺进行刻蚀。研究了刻蚀功率对刻蚀时间的影响,检验了不同刻蚀功率与刻蚀...

张翼 鲍景富... 《微电子学》 2020年06期 期刊

关键词: MEMS开关 / 聚酰亚胺 / 反应离子刻蚀 / 牺牲层释放

下载(227)| 被引(0)

聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光  CNKI文献

为进一步提高聚酰亚胺薄膜光学器件的表面质量,提出了一种聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光方法,对其抛光原理和抛光实验进行了研究。利用光刻胶流体的低表面张力及流动特性,通过在聚酰亚胺薄...

杨正 靳志伟... 《光学精密工程》 2019年02期 期刊

关键词: 抛光 / 聚酰亚胺 / 光刻胶 / 反应离子刻蚀

下载(411)| 被引(1)

NaOH溶液对聚酰亚胺/银复合薄膜制备及性能的影响  CNKI文献

通过自金属化法制备聚酰亚胺/银(PI/Ag)复合薄膜。使用氢氧化钠(NaOH)溶液对聚酰亚胺(PI)薄膜表面进行化学刻蚀,将蚀刻后的PI薄膜浸入硝酸银(AgNO_3)溶液中使银离子与钠离子发生离子置换,在PI薄膜表面形成含有Ag+的复...

王芳 翁凌... 《绝缘材料》 2016年01期 期刊

关键词: 聚酰亚胺 / / 复合薄膜 / 表面刻蚀

下载(211)| 被引(4)

基于移动掩模曝光的聚酰亚胺连续微结构刻蚀工...  CNKI文献

为实现在聚酰亚胺薄膜上制备连续面形的微透镜结构,开发了一种薄膜光刻刻蚀的工艺方法.首先利用移动掩模曝光得到连续面形的光刻胶微浮雕结构,再通过反应离子刻蚀技术将微结构高保真度、低粗糙度地...

谢玉萍 吴鹏... 《光子学报》 2015年09期 期刊

关键词: 微透镜 / 移动掩膜曝光 / 反应离子刻蚀 / 等比刻蚀

下载(286)| 被引(10)

采用CHF_3和O_2等离子刻蚀PI的各向异性研究  CNKI文献

研究了一种有效刻蚀聚酰亚胺(PI)的干法刻蚀方法,以金属铬为掩膜,刻蚀经涂胶并亚胺化而得到具有一定厚度的PI薄膜。利用反应离子刻蚀设备(RIE)将O2和CHF3按一定比例混合,适当调节

吴峰霞 王文赫 《微纳电子技术》 2012年10期 期刊

关键词: 聚酰亚胺(PI) / 各向异性 / 微掩膜 / 深宽比

下载(290)| 被引(0)

聚酰亚胺电容式湿度传感器的研制及改进  CNKI文献

聚酰亚胺(PI)电容式湿度传感器的新型设计简化了工艺流程,避免引线台阶式引出时可能出现的脱落、断裂等问题;改进了温度补偿电极的位置及结构;分析了平板式电容式传感器的等效电路及简化条件,以及PI薄膜的厚度与亚胺化...

曾欢欢 赵湛... 中国微米、纳米技术第七届学术会年会论文集(一) 2005-08-01 中国会议

关键词: 湿度传感器 / 聚酰亚胺(PI) / 电容式 / 反应离子刻蚀(RIE)

下载(126)| 被引(0)

聚酰亚胺在氧基工作气体中的反应离子深度  CNKI文献

主要研究了不同的反应离子刻蚀条件 (氧基工作气体、刻蚀功率、工作气压等 )下所获得的不同刻蚀效果。当以O2 /CHF3 作为工作气体时 ,在一定的工艺条件下实现了高深宽比 (深度 2 3μm ,深宽比 >...

钱建国 章吉良... 《微细加工技术》 2000年03期 期刊

关键词: 反应离子刻蚀 / 聚酰亚胺 / 微机电系统

下载(368)| 被引(10)

采用SF_6+O_2反应离子刻蚀聚酰亚胺膜  CNKI文献

报道了在O_2或SF_6+O_2混合气体中反应离子刻蚀聚酰亚胺的基本原理.使用牛津等离子科技公司的Plasmalab μp型刻蚀仪,对厚度0—4μm的聚酰正胺膜,进行各向异性的刻蚀,获得了侧墙陡直的...

孙承龙 杜根娣 ... 《应用科学学报》 1993年01期 期刊

关键词: 反应离子刻蚀 / 聚酰亚胺 / 侧墙

下载(239)| 被引(3)

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