CVD(化学气相沉积)金刚石大单晶生长是CVD金刚石膜研究领域在过去十余年中所取得的重大技术进展之一,在一系列高新技术领域有极其重要的应用前景。针对CVD金刚石大单晶的制备和应用进行了综述。首先对CVD金刚石大单晶...
关键词： 金刚石大单晶 / 化学气相沉积(CVD) / 外延生长 / 高技术应用
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化学气相沉积(CVD)金刚石膜具有极其优异的电学(电子学)、光学、热学、力学、声学和电化学性能的组合,因此在一系列高新技术领域有非常好的应用前景,并曾在20世纪80年代中期形成席卷全球的"金刚石热"。30余...
化学气相沉积(CVD)大尺寸高质量金刚石单晶是近年来在CVD金刚石膜研究领域所取得的重大研究进展之一。迄今为止的研究,绝大多数都是采用微波等离子体CVD,在高腔压下(10~30kPa)进行的。这是因为,在高腔压下,微波等离子...
CVD和PVDTiN ,TiC ,TiCN ,TiAlN等硬质薄膜涂层材料已经在工具、模具、装饰等行业得到日益广泛的应用 ,但仍然不能满足许多难加工材料 ,如高硅铝合金 ,各种有色金属及其合金 ,工程塑料 ,非金属材料 ,陶瓷 ,复合材料 (...
大面积光学级金刚石自支撑膜制备、性能及其在高技术领域应... CNKI文献
大面积光学级金刚石自支撑膜的制备和加工是近年来在CVD金刚石研究领域的最重要的技术进展之一;在军事和民用光学领域有非常重要的应用前景。综述了北京科技大学近年来在CVD金刚石膜光学应用领域的研究进展;给出了采用...
CVD金刚石膜研究已经持续了30余年,但仍然充满活力,新的研究方向不断出现。纳米(和超纳米)金刚石膜、金刚石膜MEMs(微机电系统)和NEMs(纳机电系统)应用、大尺寸CVD金刚石单晶、金刚石膜电化学应用和生物医学应用是当前...
关键词： CVD(化学气相沉积)金刚石膜 / 新兴研究方向 / 市场发展趋势
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直流电弧等离子体喷射在金刚石膜制备和产业化中的应用 CNKI文献
综述了北京科技大学在直流电弧等离子体喷射CVD金刚石膜沉积系统研制和改进及大面积高质量(包括光学级)金刚石自支撑膜沉积的研究进展和产业化状况。用同样技术研发出了可用于复杂形状硬质合金工具金刚石膜涂层工具批...
吕反修 唐伟忠... 《金属热处理》 2008年01期 期刊
关键词： 直流电弧等离子体喷射 / 金刚石自支撑膜 / 金刚石膜涂层硬质合金工具 / 产业化
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金刚石具有最高的硬度,极低的摩擦因数,最高的热导率和极佳的化学稳定性,因此是最理想的工具涂层材料。由于金刚石膜涂层硬质合金工具可能具有金刚石的硬度和硬质合金的强韧性的结合,因此20余年来一直受到世界各国的普...
大面积光学级金刚石自支撑膜的制备和加工是近年来在CVD金刚石研究领域的最重要的技术进展之一。综述了北京科技大学近年来在CVD金刚石膜光学应用领域的研究进展。给出了采用高功率直流电弧等离子体喷射 (DCArcPlasma...
在863计划的大力支持下,我国CVD金刚石膜研究在工具、热沉和光学应用等方面都取得了十分显著的进展,不仅显著缩小了与先进工业化国家的差距,而且已使我国开始进入产业化应用进程。目前国内已有一些小型高技术型公司和...
纳米金刚石膜的制备、表征和应用研究已经成为CVD金刚石膜研究领域的一个新的热点 .文章重点介绍了Gruen等人在贫氢和无氢环境中制备纳米金刚石膜的开创性工作 ,并和在富氢气氛中制备的纳米金刚石膜进行了对比评述 .对...
我国直流电弧等离子体喷射金刚石膜制备技术历史、现状与趋... CNKI文献
在热丝CVD(HFCVD),微波等离子体CVD(MWCVD),直流电弧等离子体喷射(DC Arc Plasma Jet)和燃烧火焰沉积(Flame Deposition)四种应用最广泛的金刚石膜制备方法中,DC Arc Plasma Jet被认为是最有工业化应用前景的技术。在...
关键词： 高功率直流电弧等离子体喷射 / 金刚石膜 / 产业化 / 综述
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CVD金刚石自支撑膜已经作为一种崭新的工程材料出现,其应用日益广泛,急切需要对其力学行为进行深入了解。为此对有关金刚石膜的断裂强度和断裂韧度的研究,以及金刚石膜的断裂机制进行了详尽的论述。简略介绍了金刚石膜...
20多年来,CVD金刚石厚膜焊接工具和薄膜涂层工具的研究都已取得了十分显著的进展,关键性的技术问题已经基本解决,相关产品已经得到实际应用,近年来在国内外均已出现CVD金刚石工具产业,并已经形成了一定的市场规模。
随着科学技术和国民经济的不断发展,人们对机械加工精度和加工效率提出了越来越高的要求,同时随着新的材料的不断涌现和越来越广泛的应用,现有的硬质合金工具已经远远不能满足要求。在面对一些难加工材料,如在现代汽车...
3.金刚石膜涂层硬质合金工具切削性能 图7所示为我们采用渗硼预处理和HCEDCA技术沉积的金刚石膜涂层YG6硬质合金铣刀在切削Al-12％Si合金时与未涂层硬质合金刀片切削寿命(fw=0.25mm)的对比,可见金刚石膜涂层工具的切削...
介绍了一种新型的磁控／流体动力学控制的大口径长通道直流电弧等离子体炬，并据此设计建 造了 １００千瓦级高功率 ＤＣ Ａｒｃ Ｐｌａｓｍａ Ｊｅｔ ＣＶＤ金刚石膜沉积系统 讨论了该系统采用的半封闭式 气体循环系...
简要地总结了ＣＶＤ金刚石膜技术近期研究与开发情况，讨论了金刚石膜工具的热学应用、光学应用及电子学应用的现状、进展及发展趋势。金刚石膜工具的应用是近期具有最大市场的应用。但随着在沉积技术和异质外延技术的...
直流电弧等离子体喷射金刚石厚膜生长不稳定性问题 CNKI文献
采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的金刚石自支撑膜。观察到在金刚石厚膜生长过程中出现形貌不稳定性 ,并往往导致膜层组织疏松 ,强度降低。本文从理论和实验观察两个方面进行了讨论。生长不稳定性在...
吕反修 黄天斌... 《金属热处理学报》 2001年01期 期刊
关键词： 生长不稳定性 / 金刚石厚膜 / 化学气相沉积(CVD) / 直流电弧等离子体喷射
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