本文从放电靶电流出发,采用一种新的研究方法,即将靶电流分解为多个代表具体放电特性的特征参数,全面而系统的研究了不同的工作气压条件下,靶电流各特征参数随靶电压的增加而进行的演化.结果发现高功率脉冲磁控溅射技...
选择具有不同溅射产额的靶材料(Cu,Cr,Mo,Ti,V和C),研究了其高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)放电靶电流波形随靶电压的演化行为.发现所有材料都满足5个阶段顺序放电特征,但是不同溅射产额的材料的相同放电阶段所需要的靶电...
高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)作为一种溅射粒子离化率高、可以沉积致密、高性能薄膜的新技术已经在国外广泛研究,但在国内尚未见研究报道。本文介绍了近十年来HPPMS技术在电源、脉冲形式、放电行为和薄膜沉积等方面...
高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积CrN薄膜研究 CNKI文献
采用高功率脉冲磁控放电等离子体离子注入与沉积的方法在不锈钢基体上制备了高膜基结合力的CrN硬质薄膜,并研究了不同的Ar/N流量比对薄膜形貌、结构及性能的影响。采用扫描电子显微镜、X射线衍射对其表面形貌和结构进...
吴忠振 田修波... 《真空科学与技术学报》 2011年04期 期刊
关键词： 高功率脉冲磁控放电 / 等离子体离子注入与沉积 / 氮化铬 / 微观结构
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基片偏压模式对高功率脉冲磁控溅射CrN薄膜结构及成分影响研... CNKI文献
针对高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)的缺点,结合沉积技术(PBII&D)技术,提出了一种新的处理方法——高功率脉冲磁控放电等离子体离子注入与沉积技术(HPPMS-PIID)。本实验采用该技术在不锈钢基体上制备了CrN薄膜,分别采...
吴忠振 田修波... 《稀有金属材料与工程》 2013年02期 期刊
关键词： 高功率脉冲磁控溅射 / 等离子体离子注入与沉积 / 偏压 / 氮化铬
下载（451）| 被引（12）
等离子体源离子注入与沉积技术作为一种可生产高结合力、高致密度涂层的真空镀膜技术,具有广阔的应用前景,尤其适用于高载荷工况下服役的功能涂层制备.该技术中金属等离子体源是关键,而现有的脉冲阴极弧源结构复杂,且...
高结晶度CrN纳米粒子掺杂的DLC薄膜的显微结构及力学性能 CNKI文献
采用高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积(HPPMS-PIID)和常规直流磁控溅射复合的方法设计制备了包含高结晶度的CrN纳米粒子的DLC薄膜,并对不同C靶电流时制备的CrN-DLC薄膜的形貌、结构及性能进行了研究.结果表明,随...
高功率脉冲磁控溅射ZrN纳米薄膜制备及性能研究 CNKI文献
采用高功率复合脉冲磁控溅射的方法(HPPMS)在不锈钢基体上制备ZrN纳米薄膜,并研究了不同的工作气压对薄膜形貌、相结构及各种性能的影响。采用SEM、XRD对其表面形貌和结构进行分析,发现制备的薄膜表面光滑、致密,无大...
高功率脉冲磁控溅射氩氮比对ZrN薄膜结构及性能的影响 CNKI文献
采用高功率复合脉冲磁控溅射的方法(HPPMS)在不锈钢基体上制备ZrN薄膜,对比DCMS方法制备的ZrN薄膜,得出HPPMS制备的薄膜表面更平整光滑、致密,既无空洞、又无大颗粒等缺陷。Ar/N对薄膜相结构及硬度、耐磨耐蚀等有较大...
红石山大桥,桥位处于山区,交通不便,主桥为(65+120+65)m预应力砼连续刚构,为节省运输成本及工期,悬浇节段较少;桥墩采用单肢空心薄臂墩,方便施工。主梁采用单箱单室,主墩采用单肢箱形截面,最大墩高约85.6m,桩基采用钻...
吴忠振 王波 《中国水运(下半月)》 2019年03期 期刊
红石山大桥主桥上构采用(65+120+65)m预应力混凝土连续刚构,悬臂浇筑施工,0号块结构受力复杂,全桥结构计算模型无法全面准确反应0号块应力分布情况,需对0号块进行空间实体有限元分析。本文利用大型通用有限元软件ANSY...
直管过滤阴极弧TiC不沾锡薄膜制备及耐磨性研究 CNKI文献
随着电子工业技术的发展,无铅化已经成为电子焊接工业领域的发展趋势。由于无铅钎料中Pb含量减少,含Sn量增加,导致于原来用于焊接的大型设备中不锈钢材料的链爪、锡槽、叶轮等在无铅钎料中受到严重腐蚀而破坏,而且在焊...
Origin of Initial Current Peak in High Power Impulse M... CNKI文献
A non-sputtering discharge is utilized to verify the effect of replacement of gas ions by metallic ions and consequent decrease in the secondary electron emission coefficient in the discharge current...
第十七届离子束材料表面改性国际会议、第十一届等离子注入... CNKI文献
继第十一届等离子体离子注入与沉积国际会议(9月8-12)在哈工大举办之后,先进焊接与连接国家重点实验室又成功主办第十七届离子束材料表面改性国际会议(9月13-17)。大会主席为哈工大先进焊接与连接国家重点实验室副主任...
高功率脉冲磁控溅射以较高的溅射材料离化率及其所带来的高致密度、高结合力和高综合性能成为物理气相沉积领域的新宠,然而其沉积速率低、放电不稳定、溅射材料离化率不一等缺点阻碍了其在工业界的推广和应用.针对高功...
第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议征稿通知 CNKI文献
第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议(The 11th International Workshop on Plasma-Based ion implantation & deposition,PBII&D 2011)将于2011年9月8～12日在我国哈尔滨
第十七届离子束材料表面改性国际会议(The 17th International Conference on Surface Modification of Materials by Ion beams,SMMIB 2011)将于2011年9月13～17日在我国哈尔滨举行,同时举行产品展览。
第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议征稿通知 CNKI文献
第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议(The 11th International Workshop on Plasma-Based ionimplantation&deposition,PBII&D 2011)将于2011年9月8～12日在我国哈尔滨举行,同时举行产品展览。
第十七届离子束材料表面改性国际会议(The 17th International Conference on Surface Modification of Materials by Ion beams,SMMIB 2011)将于2011年9月13～17日在我国哈尔滨举行,同时举行
