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三代微光像增强器分辨力计算理论模型  CNKI文献

分辨力和传递函数MTF是微光像增强器的2个重要参数。长期以来,人们对于三代微光像增强器阴极发出的电子初能量分布没有统一的认识,从而没有一个公认的分辨力和MTF计算模型。通过理论分析和假设,给出一定条件下一个分辨...

程耀进 向世明... 《应用光学》 2007年05期 期刊

关键词: 三代微光像增强器 / 双近贴 / 微通道板(MCP) / 分辨力

下载(304)| 被引(34)

MCP参数对微光像增强器分辨力影响研究  CNKI文献

为了全面分析微通道板(MCP)参数对微光像增强器分辨力的影响,利用电子散射理论分析了MCP输出电子横向散射和MCP非开口面的电子散射情况,得到了MCP通道间距、输出电极结构和开口面积比等参数对微光像增强器分辨力的影响...

程耀进 石峰... 《应用光学》 2010年02期 期刊

关键词: 微通道板 / 微光像增强器 / 分辨力

下载(285)| 被引(12)

提高X光像增强器综合性能的研究  CNKI文献

X光像增强器是一种新颖的光电成像器件,其综合能力甚佳,用途很广。但由于它的分辨率只有41p/mm,大大限制了它在工业探伤和微电子器件检测的使用用途。 本文系统地论述了影响X光像增强器各项性能指标...

程耀进 导师:皮德富 南京理工大学 2004-05-01 硕士论文

关键词: X光像增强器 / 亮度 / 分辨率 / 噪声

下载(203)| 被引(2)

微光像增强器管壳内部真空度恶化分析研究  CNKI文献

微光像增强器是重要的光电器件,本文研究该器件在制作过程中出现的部分像管工作寿命低的原因,根据潘宁放电原理,结合气体在材料中的扩散理论和气体在极其微小漏孔中的流动理论,对密封像管管壳内部真空度变化进行了检测...

程耀进 徐江涛... 《真空电子技术》 2012年02期 期刊

关键词: 微光像增强器 / 真空度 / 放气 / 漏气

下载(107)| 被引(1)

微光像增强器近贴距离在线测试方法研究  CNKI文献

鉴于近贴距离尤其第一近贴距离是影响分辨力最重要的因素,提出一种新的微光像增强器近贴距离在线测试方法。应用平行平板电容器原理,通过测量阴极面和微通道板输入面之间的电容值来测量第一近贴距离。利用多组电容值和...

程耀进 郭晖 《应用光学》 2009年03期 期刊

关键词: 微光像增强器 / 近贴距离 / 在线测试

下载(81)| 被引(2)

电真空器件管壳耐压特性分析  CNKI文献

本文指出了电真空器件的高压放电和击穿类型,真空击穿和沿面闪络的物理机理、影响因素和预防措施。

程耀进 程宏昌... 《真空电子技术》 2005年03期 期刊

关键词: 电真空器件 / 陶瓷管壳 / 真空击穿 / 沿面闪络

下载(137)| 被引(0)

近贴聚焦成像器件光电阴极传递封接工艺研究  CNKI文献

依据近贴聚焦系列成像器件研究的需要,开展了光电阴极真空传递封接工艺研究,并且结合器件的研制对封接工艺质量进行了可靠性的考核。结果证明,用InSn合金焊料进行光电阴极真空传递封接,其工艺稳定,性能质量可靠,封接气...

程耀进 徐江涛... 《真空电子技术》 2009年06期 期刊

关键词: 近贴聚焦 / 成像器件 / 阴极传递 / 封接

下载(64)| 被引(1)

透明导电膜在X光像增强器中的应用  CNKI文献

简要介绍了透明导电膜在X光像增强器中的应用,实验证明透明导电膜屏具有工艺简单、成本低等特点。

程耀进 《应用光学》 2003年03期 期刊

关键词: 透明导电膜 / X光像增强器 / 铝膜荧光屏

下载(69)| 被引(1)

气体在玻璃中渗透的数值模拟  CNKI文献

为深入理解环境气体对超高真空电子器件玻璃壳体材料的渗透机理,采用巨正则蒙特卡罗法和分子动力学法对玻璃中的气体溶解、扩散两种渗透行为进行了数值模拟研究,基于原子模拟凝聚相优化分子势力场,计算了两种玻璃结构...

程宏昌 程耀进... 《西安交通大学学报》 2020年01期 期刊

关键词: 玻璃结构 / 气体渗透 / 溶解扩散 / 数值模拟

下载(222)| 被引(0)

微光器件铟封漏气因素分析  CNKI文献

为解决微光管光电阴极与管体铟封漏气问题,采用扫描电镜和X射线能谱仪对铟材和封接过程工艺质量进行全面分析,结果表明造成铟封漏气的根本原因是铟量小,铟表面氧化和吸附的杂质污染造成的,与铟纯度无关。采取提高真空...

徐江涛 程耀进... 《真空电子技术》 2008年05期 期刊

关键词: 微光器件 / 铟封漏气 / 气密性 / 杂质污染

下载(199)| 被引(7)

三代像增强器透射式GaAs阴极光电发射稳定性研究  CNKI文献

为了解决三代像增强器管内阴极灵敏度下降问题,用质谱计对激活工艺过程进行质量检测,并确定了激活工艺参数,通过对阴极原子级洁净表面获得和激活铯、氧提纯工艺参数优化研究,对制备的透射式GaAs阴极光电发射稳定性进行...

徐江涛 程耀进... 《应用光学》 2013年03期 期刊

关键词: 三代像增强器 / 透射式 / 光电发射 / 稳定性

下载(67)| 被引(2)

基于盖格-雪崩光电二极管的光子计数成像  CNKI文献

考虑用传统的成像技术检测光生电荷信号时易受模数转换噪声干扰,本文提出了一种基于单光子灵敏雪崩光电二极管(GM-APD)的光子计数成像方法。该方法以单光子灵敏GM-APD作为探测单元,以全数字化方式实现微弱光学信号的有...

何伟基 司马博羽... 《光学精密工程》 2012年08期 期刊

关键词: 单光子雪崩二极管 / 光子计数成像 / 马尔科夫更新 / 标准互信息量

下载(587)| 被引(23)

GaAs-玻璃粘接透射式阴极光电发射在线稳定性研究  CNKI文献

为了寻找三代像增强器管内阴极灵敏度下降产生的原因,用质谱计作为质量监测手段,通过对阴极原子级洁净表面获得、阴极激活铯、氧提纯工艺参数优化研究,所制备的透射式GaAs阴极光电发射稳定性进行在线考核试验,结果表明...

徐江涛 程耀进... 《真空科学与技术学报》 2013年02期 期刊

关键词: GaAs-玻璃粘接 / 透射式 / 光电发射 / 在线稳定性

下载(62)| 被引(0)

三代微光管防离子反馈Al_2O_3膜电子轰击放气成分分析  CNKI文献

为了解决防离子反馈Al2O3膜污染对三代微光管GaAs光电阴极灵敏度的影响,用四级质谱计对制管超高真空室残气、无膜微通道板(MCP)和带Al2O3膜MCP在电子轰击时的放气成份进行分析。结果表明,带Al2O3膜MCP放出有对阴极光电...

徐江涛 程耀进... 《应用光学》 2012年06期 期刊

关键词: Al2O3膜 / 防离子反馈 / MCP / 电子轰击

下载(67)| 被引(1)

不同场强分布的1064nm激光减反膜损伤特性  CNKI文献

设计了两种具有不同场强分布的1 064nm减反射膜结构,即G/H3L/A和G/M2HL/A。采用离子束辅助沉积技术,在K9基底上制备了薄膜,并对薄膜在强激光下的损伤斑形貌及损伤阈值(LIDT)进行了测量。研究结果表明:薄膜的场强分布不...

徐均琪 苏俊宏... 《光电子.激光》 2012年07期 期刊

关键词: 减反射 / 薄膜 / 电场 / 激光损伤阈值

下载(286)| 被引(10)

LaTiO_3薄膜的光学及激光损伤特性  CNKI文献

研究了工艺条件(沉积温度、真空度、蒸发束流)对LaTiO3薄膜光学和激光损伤特性的影响。采用椭偏法测量了薄膜的光学常数,分析了不同工艺条件下制备薄膜的折射率和消光系数,得出工艺参数与薄膜光学性能的相互关系。研究...

徐均琪 杭良毅... 《真空科学与技术学报》 2015年09期 期刊

关键词: 薄膜 / LaTiO3 / 折射率 / 激光损伤阈值

下载(267)| 被引(6)

近贴聚焦成像器件管体熔铟层气孔产生的因素分析  CNKI文献

为解决成像器件管体熔铟层产生流散不均匀、熔层断裂、体内气泡造成的光电阴极与管体封接漏气问题,深入分析了产生根源,研究了一种管体注铟技术,使管体注铟合格率达到了100%,光电阴极与管体封接气密性成品率达到了98%...

徐江涛 程耀进... 《真空电子技术》 2011年05期 期刊

关键词: 近贴聚焦 / 成像器件 / 管体注铟 / 熔层气泡

下载(36)| 被引(1)

二代倒像微光像增强器管内质量污染分析  CNKI文献

针对二代倒像微光像增强器研制中出现的制管成品率低的问题,全面对制管工艺过程中质量污染产生的根源和污染给管子带来的问题进行了分析、讨论,并结合制管进行了证实。有油真空处理设备中的油蒸气返流是造成管子部件污...

徐江涛 程耀进... 《真空电子技术》 2009年03期 期刊

关键词: 倒像 / 微光像增强器 / 质量污染 / 成品率

下载(53)| 被引(0)

钛酸镧薄膜的制备及工艺优化  CNKI文献

为了获得制备钛酸镧(LaTiO3)薄膜的最优工艺条件,采用电子束热蒸发技术在K9基底上制备了单层LaTiO3激光薄膜。研究了不同工艺条件对LaTiO3薄膜激光损伤特性的影响。研究结果表明,对LaTiO3薄膜激光损伤阈值(laser-indu...

杭良毅 徐均琪... 《应用光学》 2015年06期 期刊

关键词: 薄膜 / LaTiO3 / 激光损伤 / 工艺优化

下载(272)| 被引(1)

工艺参数对LaTiO_3(H4)薄膜光学特性的影响  CNKI文献

采用电子束热蒸发技术制备了单层LaTiO_3(H4)薄膜,研究了工艺条件(基片温度、真空度、蒸发束流)对其光学特性的影响。采用椭偏法测量了薄膜的光学常数,分析了不同工艺条件下制备薄膜的折射率和消光系数,得出工艺参数与...

徐均琪 杭良毅... 中国真空学会2014学术年会论文摘要集 2014-11-07 中国会议

关键词: 薄膜 / LaTiO_3 / 折射率 / 工艺参数

下载(80)| 被引(0)

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